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建設(shè)地點(diǎn)：金山東路南、明燈巷以西
工程名稱：蘇州市集成電路創(chuàng)新中心（二期）
公示內(nèi)容：
總圖：
1、口袋公園處機(jī)動(dòng)車坡道調(diào)整
2、地下室輪廓調(diào)整
3、根據(jù)龍湖連接通道增加出地面風(fēng)井
4、總圖景觀綠化與標(biāo)高調(diào)整
5、經(jīng)濟(jì)技術(shù)指標(biāo)調(diào)整
1#:
1、三十一層平面更新（面積增加后仍滿足規(guī)劃指標(biāo)要求）
2、三十層平面更新
3、五層、十層，內(nèi)裝增加隔墻布置
4、首層平面及北側(cè)入口立面優(yōu)化
5、屋頂設(shè)備及百葉調(diào)整
2#：
1、首層調(diào)整裝卸平臺(tái)大小
2、五層內(nèi)裝增加隔墻布置
3、屋面層電梯機(jī)房調(diào)整，增加檢修梯
3~7#：
4#和6#增加2處空調(diào)機(jī)位
公示期限：2025.12.25-2026.1.4
公示地點(diǎn)：施工現(xiàn)場(chǎng)及高新區(qū)網(wǎng)站
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